先進制程控制APC
隨著晶圓日趨增大和關鍵尺寸的不斷縮小,半導體制造過程的質量實時控制變得越發重要,這就對半導體生產企業提出了比以往更嚴格的制程控制要求。對于8寸和12寸晶圓廠而言,以往的統計制程控制(SPC)已經不能適應當前的質量控制要求,因而先進制程控制(APC)成為不可或缺的關鍵系統。
APC負責采集包括產品、工藝、設備、技術平臺等相關的歷史數據,實時調整生產工藝配方的參數,以達到控制制程質量的目的,從而提高產品良率。
設備定義,PM參數設定。
1. 定義設備屬性及特點
2. 定義設備PM 數據在auto tuning的使用比例
3. 設備的分組
1. 查看OVL Auto Monitor PM過后的各設備最新的設備偏移量
2. 人工批量修改APC 模型數據
3. 查看設備PM 數據的變化量
產品設定,產品反饋控制,反饋參數范圍的設定,Focus的管理,APC 算法流程設定及模擬。
1. 設定產品信息的基礎數據
2. 手動同步MES中的產品信息
3. 設定產品的自身屬性(PRODUCTION、MONITOR)
4. 設定CD/OVL PILOT run 時間間隔
5. 設定是否需要支持多層OVL 的反饋
6. 設置Current Layer與OVL 的關系
7. 選擇CD、OVL采用APC 反饋的模式
用戶可以根據自身產品的緊要程度逐步進行產品層級反饋的開啟或關閉。
用戶可以按照自己工廠自身的需要設置最嚴的產品spec或設定產品組spec,亦或者設定工藝平臺相關的spec來對APC 計算完的數據進行多方面的卡控,一旦超出規格APC 不進行加工作業等待工程師的判定。
提供針對單一產品的focus 管理也提供針對工藝平臺的focus 管理方式方便用戶統一的在APC 功能模塊中使用。
提供一套可視化算法流程運轉搭建功能模塊,可以通過界面中的各種模塊化的功能實現復雜的APC 反饋算法。
SingleLot,ReworkLot。
提供工程師可以對特殊lot 進行手動作業數據的錄入
提供工程師可以對返工lot 進行手動作業數據的錄入
傳統表格化的數據展現,用戶歷次數據修改變化,數據趨勢圖,數據流及各功能模塊耗時等其他一系列報表功能。
APC 提供了豐富的報表功能,主要有如下報表:
1. 傳統表格化的數據展現
2. 用戶歷次數據修改變化
3. 數據趨勢圖
4. 數據流及各功能模塊耗時
等其他一系列報表功能
傳統表格化的數據展現
用戶歷次數據修改變化
數據趨勢圖
數據流及各功能模塊耗時
提供用戶設定好的算法流程模擬的功能從而提前得知自己設定的算法流程是否合理。
提供用戶設定好的算法流程模擬的功能從而提前得知自己設定的算法流程是否合理。
可以根據自身工廠人員具體的職責,分派不同功能界面按鈕權限。
可以根據自身工廠人員具體的職責,分派不同功能界面按鈕權限。
提供了一系列系統中使用的各種常量、過濾等參數值并供用戶可做修改。
提供了一系列系統中使用的各種常量、過濾等參數值并供用戶可做修改。
HELP模塊提供了各種APC相關的技術文檔的下載鏈接方便用戶更方便的上手APC系統的使用
提供了各種APC 相關的技術文檔的下載鏈接方便用戶更方便的上手APC 系統的使用。
FA APC使用了微軟的.net runtime,可以部署在任何運行Windows/Linux/Mac操作系統的服務器上。
APC 各個應用服務集群都采用負載均衡的策略,并由統一的Monitor Server 進行實時的監控,各個服務的運行狀況發生變化之后積極的采取必要的措施實現不間斷的服務供應。
FA APC應用服務器數量可以視業務量隨時增加。